-
Lithography Machine Mask Aligner Photo-Etching Machine
Εισαγωγή προϊόντος Η πηγή φωτός έκθεσης υιοθετεί την εισαγόμενη μονάδα διαμόρφωσης UV LED και πηγής φωτός, με μικρή θερμότητα και καλή σταθερότητα πηγής φωτός. Η δομή ανεστραμμένου φωτισμού έχει καλό αποτέλεσμα απαγωγής θερμότητας και εφέ στενής πηγής φωτός και η αντικατάσταση και η συντήρηση λαμπτήρων υδραργύρου είναι απλές και βολικές. Εξοπλισμένο με διόφθαλμο μικροσκόπιο διπλού πεδίου υψηλής μεγέθυνσης και ευρεία οθόνη LCD 21 ιντσών, μπορεί να ευθυγραμμιστεί οπτικά μέσω προσοφθάλμιου φακού ή οθόνης CCD +, με υψηλή ευθυγράμμιση...
